Kif Issir Ħġieġ ITO

Kif isir il-ħġieġ ITO?

Il-ħġieġ ITO huwa tipikament magħmul permezz ta 'proċess magħruf bħala depożizzjoni fiżika tal-fwar (PVD), speċifikament sputtering. Hawn huma l-passi ġenerali involuti fil-produzzjoni tal-ħġieġ ITO:

Substrat tal-ħġieġ:Ibda b'sottostrat tal-ħġieġ ta 'kwalità għolja, bħal soda-lime jew ħġieġ borosilikat. Is-sottostrat għandu jkun nadif u ħieles minn kwalunkwe kontaminanti.

Tindif:Naddaf is-sottostrat tal-ħġieġ sewwa biex tneħħi kwalunkwe trab, żjut jew impuritajiet li jistgħu jaffettwaw il-kwalità tal-kisi ITO. Dan tipikament isir bl-użu ta 'kombinazzjoni ta' tindif kimiku, banjijiet ultrasoniċi, u tlaħliħ b'ilma dejonizzat.

Tgħabbi s-sottostrat tal-ħġieġ:Poġġi s-sottostrat tal-ħġieġ imnaddaf f'kamra tal-vakwu jew f'sistema ta' sputtering, filwaqt li tiżgura li jinżamm fis-sod.

Preparazzjoni tal-mira:Ipprepara l-mira tal-ossidu tal-landa tal-indju (ITO), li huwa materjal solidu magħmul minn ossidu tal-indju u ossidu tal-landa fil-proporzjon mixtieq. Il-mira hija ġeneralment magħmula minn tekniki tal-metallurġija tat-trab u ffurmati f'forma diska jew rettangolari.

Proċess ta' Sputtering:Fil-kamra ta 'sputtering, oħloq ambjent ta' pressjoni baxxa u daħħal gass inert, bħal argon. Applika potenzjal elettriku ta 'vultaġġ għoli għall-mira ITO, li tikkawża joni mill-gass inert jaħbat mal-wiċċ tal-mira. Din il-ħabta tneħħi l-atomi mill-mira, li mbagħad jiddepożitaw fuq is-sottostrat tal-ħġieġ.

Formazzjoni tal-Films:Hekk kif l-atomi ta ' l-ITO sputtered jitneħħew mill-mira, jivvjaġġaw mill-kamra tal-vakwu u jiddepożitaw fuq il-wiċċ tas-sottostrat tal-ħġieġ. Il-proċess ta 'depożizzjoni jkompli sakemm tinkiseb il-ħxuna mixtieqa tas-saff ITO. Il-ħxuna tista 'tiġi kkontrollata billi taġġusta l-ħin tad-depożizzjoni u l-parametri ta' sputtering.

Wara l-ipproċessar:Ladarba s-saff ta 'l-ITO ikun ġie depożitat, jista' jgħaddi minn trattamenti addizzjonali, bħal ttemprar jew tisħin, biex itejjeb il-konduttività elettrika tiegħu, l-adeżjoni mas-sottostrat tal-ħġieġ, u l-kwalità ġenerali tal-film.

Spezzjoni u Kontroll tal-Kwalità:Il-ħġieġ finali miksi bl-ITO huwa spezzjonat għall-uniformità, l-adeżjoni, it-trasparenza u l-konduttività elettrika. Jistgħu jsiru diversi testijiet biex jiġi żgurat li l-film jissodisfa l-ispeċifikazzjonijiet meħtieġa.

Id-dettalji eżatti tal-proċess tal-manifattura jistgħu jvarjaw skont it-tagħmir speċifiku, il-kompożizzjoni fil-mira, u l-proprjetajiet mixtieqa tal-film ITO. It-teknika ta 'sputtering tintuża komunement għall-produzzjoni tal-ħġieġ ITO, iżda jistgħu jintużaw ukoll metodi oħra bħall-evaporazzjoni tar-raġġ tal-elettroni jew id-depożizzjoni tal-fwar kimiku (CVD).

Soluzzjonijiet personalizzati tal-ħġieġ ITO huma disponibbli! Ħossok liberu li tikkuntattja lil KONSHEN Glass fi kwalunkwe ħin għar-rekwiżiti speċifiċi tiegħek jew ibgħatilna t-tpinġijiet tiegħek. Bħala manifattur tal-ħġieġ professjonali, KONSHEN Glass jispeċjalizza fil-provvista ta 'soluzzjonijiet tal-ħġieġ ITO personalizzati mfassla għall-bżonnijiet tiegħek.